2020年全球薄膜沉积设备竞争格局

3）溅射PVD：AMAT以86%的市占率居垄断地位，北方华创以3%的市占率跻身PVD全球主要供应商之列。

4）管式CVD：AMAT、TEL垄断该市场，份额分别为51%、46%，ASMI份额为3%。5）LPCVD：LAM、TEL、AMAT份额分别为40%、36%、19%。

目前薄膜沉积设备国产化率依然较低。薄膜沉积设备市场主要国内玩家有北方华创、拓荆科技和微导纳米。2024年北方华创相关收入超过100亿元，拓荆科技相关收入38.63亿元，微导纳米相关收入3.27亿元，三家合计至少约142亿元，占国内薄膜沉积设备市场份额约18%，国产化率依然较低。2、ALD：技术优势明显，先进领域用量显著提升

薄膜沉积设备按照工艺原理的不同可分为PVD、CVD和ALD设备。PVD为物理过程，CVD为化学过程，两种具有显著的区别。ALD也是采用化学反应方式进行沉积，但反应原理和工艺方式与CVD存在显著区别，在CVD工艺过程中，化学蒸气不断地通入真空室内，而在ALD工艺过程中，不同的反应物（前驱体）是以气体脉冲的形式交替送入反应室中的，使得在基底表面以单个原子层为单位一层一层地实现镀膜。相比于ALD技术，PVD技术生长机理简单，沉积速率高，但一般只适用于平面的膜层制备；CVD技术的重复性和台阶覆盖性比PVD略好，但是工艺过程中影响因素较多，成膜的均匀性较差，并且难以精确控制薄膜厚度。