24 年ASML 在全球半导体前道光刻机市占率达61%

到晶圆相应位置上。该工艺主要包括三个步骤——光刻胶涂覆、曝光和显影。光刻胶涂覆和显影步骤需使用Track设备，光刻机则用于曝光过程。

全球光刻机市场呈现出明显的寡头垄断格局。ASML、Nikon和Canon三家公司长期占据全球光刻机市场的主导地位。其中，ASML凭借其在高端光刻机领域的技术优势，2024年占据了全球光刻机市场61.2%的份额，特别是在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商。尼康和佳能则主要集中在中低端光刻机领域。

ASML主导全球前道高端光刻机市场。根据ChipInsights的2024年全球半导体前道光刻机销量数据显示，ASML作为行业龙头在EUV、ArFi等高端光刻机领域的销量明显高于其他两家。Nikon和Canon在KrF、i-line等领域占据相当程度的市场份额，Nikon除高端的EUV光刻机外，其他类型均有出货；而Canon则主攻低端的i-line和KrF光刻机，在i-line类型光刻机方面销售量较高。