中国境内半导体光刻胶市场规模梳理

在细分市场中，i-Line光刻胶、KrF光刻胶与ArF光刻胶系境内12英寸集成电路晶圆制造主要应用光刻胶，随着境内12英寸晶圆产能持续放大，先进应用和技术节点持续提升，光刻技术如浸没式光刻技术和多重曝光技术逐步应用以及光刻胶性能稳步升级，KrF光刻胶与ArF光刻胶对应市场规模从2020年17.7亿元增长至2023年47.2亿元，预计2028年市场规模将达到106.9亿元。

湿电子化学品（又称超净高纯试剂、工艺化学品），指主体成分纯度超99.99%且杂质离子、微粒数达标，是微电子、光电子湿法工艺及晶圆制造用液体化工材料；因下游工艺管控严，其纯度、洁净度、精度要求极高（杂质颗粒粒径＜0.5μm、金属杂质含量＜ppm级），故具有高技术门槛、高附加值等特点。