2024 年全球半导体光刻胶竞争格局

降解，使曝光区域在显影液中可溶，未曝光区域保持不溶；负性光刻胶的曝光区域中，光敏剂吸收光能后会诱发感光树脂交联固化，形成不溶于显影液的三维网络结构。

全球半导体光刻胶市场整体呈现上升趋势,2025-2034年复合增长率为5.5%。据MarketResearchFuture数据，2024年全球光刻胶市场规模已达52.8亿美元；该机构同时预计，到2034年全球半导体光刻胶市场规模或将增至90.3亿美元。

根据QYResearch数据，2024年全球光刻胶市场规模前五的企业分别为：TOK（23.8%）、Shin-Etsu（19.6%）、JSR（17.2%）、Fujifilm（12.6%）、DuPont（12.5%）。

国产半导体光刻胶发展潜力巨大。根据弗若斯特沙利文市场研究，中国境内半导体光刻胶市场规模从2020年33.5亿元增长至2024年80.5亿元，年复合增长率达24.5%，预计2028年境内半导体光刻胶市场规模将达到150.3亿元。