全球刻蚀设备市场规模及同比

全球刻蚀设备市场规模呈增长趋势。据SEMI与中商情报网数据显示，2024年全球刻蚀设备市场规模为156.5亿美元，同比增长5.6%，2019-2024年复合年增长率达6.4%。

全球刻蚀设备主要以LAMResearch、TEL、AMAT等国外厂商为主导。2022年全球刻蚀设备市场份额分别为：LAMResearch（47.0%）、TEL（27.0%）、AMAT（17.0%）、Others（9.0%）。

薄膜沉积设备是半导体前道工艺的核心设备之一，它的运作原理是通过物理或化学方法，在基底表面形成一层或多层薄膜。从技术类型可细分为PVD（物理气相沉积）、CVD（化学气相沉积）与ALD（原子层沉积）。