
半导体制造上游主要包含三大核心环节:由EDA(电子设计自动化)工具与IP授权构成的芯片设计支撑、半导体设备(涵盖光刻机、刻蚀机等制造关键设备)、半导体材料(包括硅片、光刻胶、特种气体等核心材料)。
EDA(ElectronicDesignAutomation,电子设计自动化)是利用计算机辅助技术完成集成电路(IC)设计、仿真、验证及开发全流程的工具链总称。作为半导体产业链上游的核心基础技术,EDA可显著提升芯片研发效率、降低设计复杂度,其技术水平直接决定芯片性能与产业创新能力。
国外EDA起步早,从早期企业内部自用CAD工具,后发展为商用及电子系统设计自动化阶段。国外EDA行业起源于20世纪60年代,初期以芯片设计企业内部自用的CAD工具为主,用于加速设计流程。伴随集成电路复杂性的提高,80年代中后期商用EDA工具市场崛起,1981年成立的MentorGraphics(后被德国Siemens收购)、1986年成立的Synopsys和1988年成立的Cadence等企业通过竞争逐步确立市场地位。
90年代行业进入电子系统设计自动化阶段,头部企业通过技术迭代与并购整合进一步扩大市场优势。2000年至今,MentorGraphics、Synopsys、Cadence等凭借布局全流程工具链与构建持续技术壁垒,形成高度集中的垄断格局。