
碳氢树脂在AI算力驱动下正面临迎来需求放量。目前M9等级以及部分M8+等级的CCL材料中,其核心变化在于碳氢树脂比例的逆转:在M8配方中,PPO:碳氢树脂≈2:1,以平衡电气性能与加工可靠性;M9则反转为碳氢:PPO≈2:1,碳氢占比提升,显著提升电气性能(Df控制在万分之五,即0.0005);树脂体系中碳氢树脂的占比将从1/3大幅提升至2/3。碳氢树脂的不含极性基团特性(纯C-H键,Dk=2.2-2.5、Df<0.001)使其成为低损耗“主力”,而PPO则兼顾机械强度和热稳定性。而英伟达在26年Rubin架构服务器的部分主要PCB料号中将大量采用M8+/M9等级的CCL,有望推动碳氢树脂26年需求放量。
我们认为本轮扩产核心由AI算力PCB性能提升驱动,重点关注钻孔、曝光、电镀和钻针等环节,国内设备厂有望受益PCB扩产周期+高端设备国产加速替代的发展机遇。本轮扩产周期主要由算力PCB性能提升驱动,叠加PCB板厂在东南亚扩产贡献。算力PCB扩产以高阶HDI、高多层为主,相比中低端板子,层数增加、孔密度增加,对钻孔、曝光、电镀等设备有直接需求拉动,据Prismark,29年PCB专用设备市场规模将增至108亿美元,24-29年CAGR为8.7%,较20-23年的3.6%明显增长,其中钻孔、曝光、电镀设备增速高于平 均 增 速 ,29年 对 应 市 场 规 模24/19/8亿 美 元 ,24-29年CAGR为10.3%/10.0%/9.8%。
高端PCB快速扩产下,海外高端设备供应紧张,国内设备企业有望加速高端设备国产替代,我们建议重点关注以下环节:
1)钻孔:高阶HDI、高多层项目投资占比最高环节,一般分别30%、20%左右,差异主要系随着HDI阶数升级,高阶HDI需多次激光打孔,激光钻孔设备