【株洲科能新材料】图 5-25 ITO 靶材产业链图

ITO靶材是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再经高温气氛烧结形成的黑灰色陶瓷半导体。ITO靶材用于形成ITO薄膜，ITO薄膜具有良好的导电性和透光性，广泛应用于制造平面显示面板、太阳能光伏电池等。ITO靶材中氧化铟含量一般在90%以上，因此铟系制造ITO靶材的核心原材料。

ITO靶材生产过程包括金属提纯和靶材制造两个核心环节。因高纯金属原料的品质影响靶材的导电性能等性状，对最终成膜的质量有较大影响，且靶材种类繁多，客户需求非标，定制属性明显。故而金属提纯环节技术壁垒及附加值均较高。

公司根据ITO靶材制造商需求，主要向其提供4N5-5N高纯度铟以及氧化铟。下游ITO靶材制造商生产工艺及产能性能不同，同样纯度下，公司可根据客户