
图32:2020年薄膜沉积设备竞争格局图33:薄膜沉积设备属于高度垄断行业
其他,27%
LAM,19%
TEL,11%
AMAT,43%
TELAMATLAM其他
数据来源:Gartner,华经产业研究院,国泰君安证券研究数据来源:彭博
图34:2020年薄膜沉积设备格局细拆
数据来源:Gartner,华经产业研究院,国泰君安证券研究
图35:薄膜沉积设备近年国产化率提升迅速图36:2023年薄膜沉积存量市场国产化率合计16.19% 12000 10000 8000 6000 4000 2000 0 20192020202120222023
20%
15%
10%
5%
0%
拓荆科技,
北方华创,9.74%
中微公司,0.75%
盛美上海,1.53%
核心公司合计收入(百万元)国产化率
注:核心公司统计为北方华创薄膜沉积设备、拓荆科技薄膜沉积设备、盛美上海其他半导体设备(电镀、立式炉管等设备)、中微公司MOCVD设备收入总计
数据来源:公司公告,ASMI,TechInsights,VLSIResearch,国泰君安证券测算
数据来源:公司公告,ASMI,TechInsights,VLSIResearch,国泰君安证券测算
国内企业入局各细分领域,全面开启国产化进程。国内厂商纷纷布局薄膜沉积设备,侧重点各不相同。拓荆科技走在行业前列,其薄膜沉积设备已覆盖PECVD、ALD、SACVD/HDPCVD等领域。北方华创以PVD作为起点,
逐渐进军CVD、ALD领域。中微公司在MOCVD设备保持领先,同时钨系列LPCVD产品已全部通过客户现场验证,新开发的ALD氮化钛设备产品性能验证可以达到国际领先水平。盛美上海在LPCVD、ALD、ECD均有布局。