
光刻机行业产业链主要包括上游核心组件及配套设备、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机技术极为复杂,主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。
光刻机行业产业链上游主要供应光刻机生产所需的零件、组件和设备等。生产一台光刻机往往涉及上千家供应商,如德国的光学设备与超精密仪器,美国的计量设备与光源等。光刻机涉及的内部零件种类众多,越高端的光刻机组成越复杂,如最高端的EUV内部零件多达8万件以上。核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等。
光刻机行业产业链下游应用主要包括芯片制造、功率器件制造、芯片封装、LED与MEMS制造等。下游市场主要为晶圆制造市场、半导体市场。