2021年全球ArF光刻胶竞争格局

其他,14.90%

杜邦,10.90%

JSR,20.90%

信越化学,21.90%

富士,8%

陶氏化学,4%

住友化学,

15%

其他,6%

JSR,24%

信越化学,

23%

东京应化,

31.40%

东京应化,20%

资料来源：前瞻产业研究院，招商证券资料来源：前瞻产业研究院，招商证券

在上游原材料环节，光刻胶最核心的原材料是光引发剂以及树脂，制作过程对精细化工技术及产业化能力有较高的要求。目前，产业积淀深厚的日本在光刻胶上游原材料领域有较高的市场份额，掌握着关键材料的定价权。根据

Trendbank研究报告，全球主要光刻胶原材料企业分布于日本、美国、中国、韩国、英国以及荷兰。其中，日本企业占比最高，达到50%左右。此外，虽然我国企业数量占比达29.5%左右，但是我国企业产品品种、规格较为单一，产量和规模较小，且以配套PCB光刻胶的原材料居多。因此，我国暂未在光刻胶原材料领域获得全球竞争力。

20 15 10 5 0

日本中国美国荷兰英国韩国

资料来源：Trendbank，招商证券

光刻胶国产替代情况

目前，我国在PCB领域以及面板领域的光刻胶应用上已经有了充足的产业化经验，在湿膜光刻胶等领域已经能够实现大规模的国产替代。雅克科技、飞凯材料、永太科技是这一领域的代表企业，市场竞争力明显。在半导体光刻胶领域，我国主要生产企业包括晶瑞股份、南大光电、上海新阳、北京科华、荣大感光、博康化学等公司。近年来，我国

在半导体光刻胶领域追赶势头非常明显，在政策、产业、资本的全方位支持下发展速度较快，国内厂商已经在中高端半导体光刻胶的生产研发上尝试突破。但是，与国际市场半导体光刻胶比重相比，我国半导体光刻胶所占比例明显更低，未来向国际先进水平的追赶空间仍然十分广阔。