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2020年全球g线/i 线光刻胶竞争格局

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2020年全球g线/i 线光刻胶竞争格局
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© 2026 万闻数据
数据来源:招商证券,富士经济
最近更新: 2024-08-08
补充说明:1、E表示预测数据;2、*表示估计数据;

数据描述

资料来源:中商产业研究院、招商证券资料来源:智研咨询、招商证券

(2)光刻胶:日本企业垄断高端技术领域,我国企业追赶空间广阔

光刻胶产业概况

光刻胶是一种在不同光照、辐射等因素的影响下溶解度会出现改变的特殊材料。当我们使用紫外光、电子束、离子束、各类射线照射光刻胶材料时,光刻胶的溶解度会改变。凭借这一特殊性质,光刻胶在微电子制造、微细图形线路蚀刻领域有极高的应用价值,是半导体制造中最关键的材料之一。根据光刻胶的应用领域,光刻胶可以分为PCB光刻胶、

LCD光刻胶以及半导体光刻胶。从研发难度来看,用于印制电路板的PCB光刻胶难度最小,用于液晶显示面板的

LCD光刻胶研发难度居中,而用于集成电路制造半导体光刻胶研发难度最大,对各项关键性能的要求最高。

根据前瞻产业研究院的预测,2021年全球光刻胶市场规模约为96亿美元。其中,PCB光刻胶市场规模约为18亿美元,LCD光刻胶的市场规模约为20亿美元,半导体光刻胶市场规模约为18亿美元。预计到2026年,全球光刻胶市场规模将增长至123亿美元,2019-2026年间复合年增长率有望达到6.0%。

半导体光刻胶

其他类光刻胶

24.80%

24.50%

24.10%

26.60%

市场规模同比增速

0%

资料来源:前瞻产业研究院,招商证券资料来源:前瞻产业研究院,招商证券

目前,光刻胶制造行业的行业集中度很高,核心技术和大部分市场份额掌握在日本公司手中。在上世纪80年代以前,美国在光刻胶领域占有绝对的技术优势和产能优势。但是,随着全球电子制造业的重心转移至日本、韩国,日本集成电路产业快速发展。此后,上游尖端材料国产化的需求日益旺盛。在此背景下,上世纪90年代,日本通过KrF光刻

胶的技术迭代实现了对美国的弯道超车,此后一直维持着光刻胶领域的绝对竞争力。截至2021年,日本东京应化、

美国陶氏化学、日本JSR、日本住友化学、韩国东进、日本富士胶片占据超过80%

图219:2021年全球光刻胶竞争格局图220:2020年全球g线/i线光刻胶竞争格局

25.2%

韩国东进,11%

住友化学,12%

JSR,13%

陶氏化学,17%

住友化学,

15.7%

杜邦,19.1%