ASML上下游利益共同体

ASML通过技术突破崛起为光刻机市场领导者。将1995年的上市视为ASML挑战光刻机领域垄断地位的起点，2000至2009年便是其关键的业务拓展阶段。在此期间，两项技术突破成为公司发展的重要转折点。为了制造更小的晶体管，20世纪90年代的光刻机竞争焦点转向光源波长。在光刻技术从193nm升级到157nm的过程中，康尼和佳能等企业选择改进现有技术路径，而ASML与台积电合作，采用了利用液体改变光折射率的“浸没式光刻”方案。2003年，ASML与台积电成功研发出全球首台浸没式光刻设备，迅速占领市场份额，实现了快速崛起。另一个重要转折点是EUV光刻机的研发。1997年，英特尔和美国能源部牵头组建EUV LLC前沿技术组织，以论证EUV技术的可行性。尽管遇到技术难度高、开发周期长等困难，ASML最终还是坚持下来。2006年，ASML正式发布其EUV光刻机设备，成为目前唯一掌握EUV光刻机技术的设备厂商。

ASML通过技术突破和投资并购成就半导体行业巨头地位。从一家小型光刻机公司发展成为“半导体产业皇冠上的明珠”，ASML的成功离不开其通过外延加速技术突破和升级。通过入股和并购迅速占据技术优势，ASML成为半导体设备公司的楷模。公司通过收购MicroUnity的Mask Tool部门、Brion Technologies、HMI、Mapper和SVG等企业，快速掌握了光学临近矫正、计算光刻、电子束检测及微激光系统等关键技术。近些年，ASML还收购了Cymer和Berliner Glas等上游企