
约6.2%。未 来 随着国 内晶圆 产 能持 续 释放,半 导 体、显示 面 板及PCB等下 游产 业 逐步 向我国 转 移,我 国光 刻 胶市 场规 模 将不 断 扩大 , 增速 有望 持 续高 于 全球 平 均增 速。
光 刻 胶行 业壁 垒 较 高 ,我 国半 导 体 光 刻 胶 国 产 化 率 低 。光 刻 胶在 原 材 料、 配 方 、设备 以 及 下 游 客 户 认 证 等 方 面 均 具 有 较 高 壁 垒, 目 前 全 球 光 刻 胶 市 场 主 要 被 少 数 美 日 韩 企业高 度 垄断 ,2021年行 业CR6高 达88%。我 国光 刻胶 发 展起 步 较晚 ,现 正 处于 由 中低 端向 中 高 端 过 渡 阶 段 。 与 海 外 先 进 光 刻 胶 技 术 相 比 ,我 国现 有 光 刻 胶 技 术 水 平 整体 相 对 落后, 光 刻胶 国 产化 率 偏低 。分 品 类来 看 ,PCB光 刻 胶和 显 示面 板 光刻 胶 技术 壁垒 相 对较低,我 国已 逐 步在 湿 膜光 刻胶 、TFT光刻 胶 等细 分 领域 初 步实 现 国产 替 代; 半导 体 光刻胶技 术 壁垒 最 高,尤其KrF光 刻胶 、ArF光 刻 胶、EVU光 刻胶 等 高端 产 品严 重依 赖 进口,其中ArF光 刻胶 国 产化 率 不足2%,EUV光 刻 胶则 几乎 全 部依 赖 进口。从 细 分市 场 来看 ,目前 全 球主 要 半导 体 光刻 胶需 求 集中 在 浸没 式ArF光刻 胶 和KrF光 刻胶 等 高 端产 品 ,随半 导 体 制 程 不 断 升 级,半 导 体 光 刻 胶需 求 占 比 仍 将进 一 步 提 升 。 整 体 来 看 ,我 国光 刻 胶生产 能 力主 要 集中 在PCB光刻胶 , 半导 体 光刻 胶 仅占2%;半导 体 光刻 胶自给 率仍有很大提 升 空间 。