我国大陆地区半导体材料市场规模（亿元）

光 刻工 艺是 推 进 半 导 体 集 成 电 路 产 业 发 展 的 关 键 技 术 。光 刻工艺 是利 用光 化 学 反应原 理 和 物 理 、 化 学 蚀 刻 方 法 ， 以 特 定 波 长光 源为图 形信 息 载 体 ， 以 光 致 抗 蚀 剂 为图 形记录 的 中 间 媒 介 ， 将 特定图 形 由 掩 膜 版 转 移至 单 晶 表 面 或 介 质 层 上 的 工 艺 技 术，是 一 种 精密 的 微 细 加 工 技 术 。 光 刻工 艺是 推 动 集 成 电 路及 相 关产 业 发 展 的 重 要 技 术 ，随 着 光 刻 工艺的 升 级迭 代 ，集 成 电路 制程 逐 步缩 小 ，计 算 能力 和存 储 量不 断提升 。

光 刻 胶 是 光 刻工 艺的 核 心 材 料 。光 刻 胶是光 刻工 艺中 所 用 到的 光 致 抗 蚀 剂 ， 是 由高分 子 光 敏 树 脂 、 抗 蚀 性 树 脂 、 增 感 剂 、 防 光 晕 剂 和 溶 剂 等 材 料 组 成 的 光 敏 感 混 合 胶 态 液体 ， 是 光 刻工 艺中 的核 心材 料 。 在 光 刻 工 艺 中 ， 将 光 刻 胶 均 匀 涂 布 在 衬 底 上 ， 经 曝 光 、显 影 、 蚀 刻 等 工 序 ， 即 可 得 到 与 掩 膜 版 对 应 的 图 形 。 根 据 显 影 效 果 不 同 ， 光 刻 胶 可 划 分为 正 性 光 刻 胶 和负 性 光 刻 胶。正 性 光 刻 胶 得 到 的 图 形 与 掩 膜 版 图 形 一 致 ， 负 性 光 刻 胶 得到的 图 形与 掩 膜版 图 形相 反。

全 球光 刻 胶 市 场规 模 有 望 持 续 扩 张 ，我 国需 求增 速 有 望 高 于 全 球 平 均 水 平 。根据 应用领 域 不同 ，光刻 胶 可划 分为 半 导体 光 刻胶 、显示 面板 光 刻胶 和PCB光 刻 胶等。全 球光刻胶 市 场中 半 导体 光 刻胶 、显 示 面板 光 刻胶 、PCB光刻 胶 占比 较 为均 衡 。受 益于 电 子信息 产 业 发 展 及新 兴 终 端 应 用 领 域 拓 展 ， 全 球 光 刻 胶 市 场 规 模 稳 健 扩 张 。 中 商 产 业 研 究 院数 据 显 示 ，2016-2021年 全 球 光 刻 胶 市 场 规 模 年 均 复 合 增 速约5.8%， 同 期我 国增 速约11.7%、高 于 全球 增 速。Maximize Market Research数据 显 示，2022年全 球 光刻 胶 市场 规模约 为92.3亿 美 元，预 计到2029年将增 长至140.7亿 美 元，2022-2029年年 均 复合 增 速