CVD全球市场格局

从全球市场份额来看，薄膜沉积设备行业呈现高度垄断的竞争局面，全球市场基本由应用材料AMAT、ASMI、泛林半导体Lam、东京电子

TEL等国际巨头垄断，2019年各细分市场的全球竞争格局为：

•CVD：AMAT占比约30%，Lam占比21%，TEL占比19%，三者占据70%市场份额

•PVD：基本由AMAT垄断，占比85%

•ALD：TEL和先晶半导体ASMI分别占据31%和29%的市场份额，其余份额由其他厂商占据

AMAT：成立于1967年，稳坐PVD设备市场头把交椅，另外，实现从传统的APCVD到PECVD、ALD，以及外延EPI、电镀ECD等主流工

艺和相应沉积的薄膜全覆盖。

Lam：成立于1980年，是全球刻蚀和薄膜沉积龙头，2012年通过并购美国诺发实现CVD领域的拓展。其专注于CVD设备布局，市占率仅次于AMAT，在ECD电镀领域一家独大。

TEL：成立于1963年，布局涂胶显影、热处理、干法刻蚀、CVD、清洗、测试等半导体设备，其ALD全球市占率居于首位。

ASM：成立于1968年，公司产品涵盖了晶圆加工技术的重要方面，包括光刻、沉积、离子注入和单晶圆外延。该公司ALD设备较为突出，全球市场占比仅低于TEL。