集成电路产业链中需要在洁净室中完成的环节

洁净室在半导体制造中至关重要，直接决定半导体产品的成败。现代半导体产业一直按照摩尔定律快速演变，当前已经达到5nm级别。一般而言，当微粒尺寸达到集成电路节点一半大小时就成为了破坏性微粒，因此，随着集成电路的线宽越来越小，集成电路行业对于产线的洁净程度要求也越来越高，对洁净室工艺提出更高要求。

（1）洁净室新风预处理：通过空调控制温湿度，同时通过其中搭载的过滤器对室外进入室内的新风进行预处理，此环节属于通用型场景，且对过滤技术要求不高；

（2）洁净室内部空气精细过滤：通过位于洁净室内部的风机过滤单元，对第一阶段预处理后的空气中未能处理的其他细微颗粒物、气态分子污染物、微生物进行进一步处理，以达到生产所需要的净化等级要求。如应用于半导体、生物等对于生产洁净度要求极高的场景，亦对该环节使用的过滤技术要求提高，并需要根据释放特定化学气体的组成情