您的浏览器禁用了JavaScript(一种计算机语言,用以实现您与网页的交互),请解除该禁用,或者联系我们。2022-2027年全球Micro LED市场规模

2022-2027年全球Micro LED市场规模

分享
+
下载
+
数据
2022-2027年全球Micro LED市场规模
数据
© 2026 万闻数据
数据来源:GGII,东方证券研究所
最近更新: 2024-06-05
补充说明:1、E表示预测数据;2、*表示估计数据;

数据描述

图15:2022-2026年全球MiniLED背光产品出货量情况图16:2022-2027年全球MicroLED市场规模

MiniLED背光产品出货量/万台(COB+POB)MicroLED市场规模预测/亿美元 6000 5000 4000 3000 2000 1000 0

2022E2025E2027E

数据来源:行家说Research、东方证券研究所数据来源:GGII、东方证券研究所

3.2TGV推动玻璃基板应用于先进封装

在摩尔定律放缓的时代,先进封装通过改变连接距离和连接方式,不断刷新芯片的性能。先进封

装包括2.5D/3D封装、扇出晶圆级封装和系统级封装,在提高芯片集成度、缩短芯片距离、加快芯片间电气连接速度、性能优化的过程中扮演重要角色。其中,2.5D封装将芯片并排放置在中介层(Interposer)顶部,通过芯片的微凸块(uBump)和中介层中的布线实现互连;3D封装则将多个半导体芯片堆叠在一起创建三维结构,将集成提升至新高度。

图17:2.5D、3D封装技术示意图

数据来源:EngineeringWhitePapers、东方证券研究所

硅通孔(TSV,ThroughGlassVia)完全穿过硅中介层或芯片实现垂直电气连接,是实现2.5D/3D封装的关键技术。TSV通过在晶圆中填充以铜,提供贯通硅晶圆裸片的垂直互连,用最短路径将硅片一侧和另一侧进行电气连通,可以提高系统集成密度,方便实现系统级的异质集成。TSV制造的主要工艺步骤包括孔刻蚀、绝缘层沉积、扩散阻挡层/种子层沉积、导电材料填充及表面平坦化等。