022年光刻胶市场格局

国内半导体光刻胶市场主要竞争公司较多，但在ArF胶上均处于起步状态。分品看：G/I线光刻胶：国内北京科华、徐州博康、苏州瑞红已实现大规模量产，并已成为国内头部半导体企业，市场份额逐渐提升。KrF光刻胶：北京科华和徐州博康进展较快，2023年已有多个品种实现销售；此外苏州瑞红及上海新阳也实现了量产突破。ArF光刻胶：南大光电推出国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶，并实现少量销售，而华懋科技、上海新阳也有相关产品进行测试导入。EUV光刻胶：当前国内并无EUV光刻机，各厂商EUV光刻胶尚处于理论研究阶段。

公司ArF光刻胶已实现量产出货，促进公司半导体光刻胶竞争力进一步提升。公司已在上海化学工业区成功建立年产1千吨的半导体光刻胶量产线，能生产ArF及KrF光刻胶，采用先进技术确保产品质量。通过引进超高纯PFA涂层设备和高精度物料流量控制系统，加上自主研发的光刻过滤系统，公司能有效控制金属杂质至ppt级和颗粒至0.1um级别。ArF光刻胶的开发已完成部分型号，首批产品已达到国际大厂水平，已于24Q1在国内部分芯片企业量产出货并进入逐渐放量阶段。此外，G线和I线光刻胶产品已广泛应用于国内集成电路产线，KrF光刻胶产品种类超过20种，稳定供应国内主要芯片制造商，展现了公司在满足国内先进制程光刻胶需求方面的强大能力。

公司成功搭建高纯EBR装置，标志着成为国内首家掌握高纯精馏技术的本土溶剂供应商，专门为ArF光刻胶及其他高端制程需求的高纯溶剂提供支持。目前，公司生产的EBR溶剂达到G4等级规格，能够满足40纳米及以下工艺制程的芯片