018-2023年中国光刻胶市场规模预测趋势图（亿元）

全球光刻胶市场预计将在2024年恢复增长，其中EUV和KrF光刻胶产品增长最快，主要由于这些产品在先进逻辑和存储器等新技术的应用。光刻与刻蚀技术作为大规模集成电路制造过程中最关键的工艺，对光刻胶的需求显著增加，尤其是随着先进制程工艺的演进，刻蚀次数的增加大大提高了光刻胶的需求。从65nm到5nm制程，刻蚀次数从20次增至160次，复杂度提升8倍。随着晶圆制造规模的持续扩大，中国有望成为半导体光刻胶产业链转移的重要目的地。

从竞争情况看，全球光刻胶市场主要被日美企业占据主要市场。全球光刻胶市场主要被JSR、东京应化、美国杜邦、信越化学、住友及富士胶片等制造商所垄断，尤其是在半导体光刻胶的高端的KrF和ArF领域，市场集中度更高。日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据领先地位。根据观研天下，日本企业在半导体光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。在半导体光刻胶的细分市场中，2020年，日本东京应化在G/I线、KrF和EUV光刻胶市场的份额位列全球第一，分别是26%、34%和46%；而在ArF光刻胶产品市场中，日本JSR以24%的市场份额位列全球第一。