
光刻胶全球百亿美元市场,半导体级胶国内市场规模达42亿元。全球:2019年全球光刻胶市场规模约82亿美元,预计2026年达123亿美元,复合增速6%;其中半导体光刻胶2022年市场规模26.4亿美元;中国大陆:2021年我国光刻胶市场规模达93.3亿元,其中半导体2023年市场规模约42亿元。2023年12月受原材料和劳动力成本不断上涨,日本住友计划提高KrF等半导体光刻胶产品的价格,上涨幅度约10%-20%(数据来源:石化联合会、TrendForce、TrendBank、前瞻产业研究院、中商产业研究院)。
ArF光刻胶占主导份额,高端制程半导体光刻胶对日企进口依赖度较高。半导体光刻胶按曝光波长可分为g线、i线、KrF、ArF、EUV光刻胶,对应制程先进程度、材料壁垒、价值量逐一提升。从需求结构来看,根据前瞻经济学人数据,随着低端制程的淘汰以及先进制程的渗透,2020年全球半导体光刻胶中,传统i/g线光刻胶需求占比下降至12%,KrF占比25%,ArF/ArFi占比合计达54%,应用于 7nm 以内先进制程的EUV光刻胶占比提升至7%。目前我国光刻胶主要集中于中低端PCB及面板领域,以及紫外宽谱、g线等低端制程环节。高端制程半导体胶过去几十年主要被日本企业垄断,主要生产商包括东京应化、JSR、住友化学、富士胶片、信越化学等。