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全球涂胶显影设备市场规模稳步增长

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全球涂胶显影设备市场规模稳步增长
数据
© 2026 万闻数据
数据来源:国泰君安证券研究,华经产业研究院
最近更新: 2024-03-11
补充说明:1、E表示预测数据;2、*表示估计数据;

数据描述

华经产业研究院预测,2023年前道设备市场规模为24.76亿美元,整体保持稳定。全球涂胶显影设备市场高度集中,东京电子(TEL)一家独大。2019年东京电子市场分额约为87%,其他厂商包括迪恩士(DNS)、苏斯微(SUSS)、亿力鑫(ELS)等市场份额合计约13%。国内厂商中,芯源微是全国唯一一家前道涂胶显影设备供应商。

全球CMP设备市场规模迅速回升,呈现双头垄断格局。先进封装TSV技术以及混合键合中晶圆片抛光减薄工艺离不开CMP设备。2019-2020年受全球半导体行业景气度下降影响,全球CMP设备市场规模减小至17.67亿美元。2021年半导体行业迎来新一轮上行周期,拉动CMP市场规模快速回升至27.83亿美元。2022年CMP市场规模为27.78亿美元,整体保持稳定。全球CMP设备市场呈双头垄断格局,2019年前两大供应商应用材料和荏原Ebara市场份额分别为66.1%和28.3%,合计占比达94.4%,2017-2019年两家公司市场份额之和均超过90%。国内厂商主要有华海清科、晶亦精微等,其中华海清科相较国内其他厂商具有较大领先。华海清科 28nm 制程已实现成熟产业化应用, 14nm 制程工艺正处于验收阶段,但相较国外龙头最先进技术已达 5nm 制程工艺仍有较大差距。