高纯溅射靶材产业链

高纯溅射靶材作为PVD沉积的关键原材料，其纯度、密度、品质等对最终的电子器件或光学元器件的质量和性能起着重要作用。目前高端镀膜材料产品纯度一般在99.99%-99.9999%（即4-6N），如纯度要求最高的IC领域通常要达到5N5（99.9995%）以上，平板显示和太阳能电池也分别要求达到5N、4N5以上。溅射靶材质量对膜层性能有很大的影响，同时会影响到镀膜的生产效率和成本，具有较高的进入壁垒。

从产业链环节来看，溅射靶材上游原材料为高纯金属，若金属杂质含量过高，则形成的薄膜无法达到使用所要求的电性能，且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒，导致电路短路或损坏，严重影响薄膜的性能。而这对金属提纯的要求极高，且提纯后往往还需配比其他金属元素才能投入使用，这个过程中需经过熔炼、合金化和铸造等步骤，对配比和工艺控制都有极高要求，因此目前高纯铜、高纯钽等原材料都很大程度上由海外厂商把控，国内靶材厂商的采购容易受到限制。

继上游高纯金属原材料环节后，在溅射靶材制造环节，需要进行反复的塑性变形、热处理，需要精确地控制晶粒、晶向等关键指标，再经过焊接、机械加工、清洗干燥、真空包装等工序，工序繁多且精细，工序流程管理及制造工艺水平将直接影响到溅射靶材的质量和良品率。

目前全球溅射靶材具有规模化生产能力的企业较少，主要是日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯等日美厂商主导，这些龙头厂商较早涉足该领域，技术积累深厚、专利布局完善，且不断进行垂直整合和横向扩张，同时掌握金属提纯和溅射靶材制造能力。而韩国、新加坡、中国台湾地区等在磁记录和光学薄膜领域有所特长，但大多缺少核心技术及装备，核心材料靶坯依赖美日进口。我国溅射靶材产业起步较晚，整体技术和规模与全球龙头相比仍有较大差距，尤其是在半导体、平板显示等中高端领域有着巨大的替代空间。