2019年全球半导体清洗设备行业竞争格局

全球清洗设备市场由日系厂商主导，国内厂商加速追赶，但国产替代仍有较大空间。清洗设备的工艺和方法较为丰富，市场竞争更为激烈。目前全球清洗设备市场的主要份额由DNS、TEL等国外厂商占据，2019年DNS以50%的份额处于绝对领先地位。中国大陆的清洗设备领域主要包括盛美半导体、北方华创、芯源微、至纯科技四家主要厂商，且专注的领域有所差异。芯源微目前产品主要应用于集成电路制造领域的单片式刷洗领域，且正在研发单片式化学清洗设备。

清洗和涂胶显影都采用旋转方式完成工艺实现，设备之间存在一定的技术共通性。单片清洗设备通常采用旋转喷淋等清洗手段松动晶圆表面杂质，利用晶圆旋转产生的离心力将杂质伴随清洗液甩出晶圆表面。与之相应的，涂胶显影设备在涂抹光刻胶的过程中，需要在晶圆表面滴胶后利用高速旋转使得光刻胶向边缘流动，显影过程中也需旋转喷洒显影液和甩干。因此，单片清洗设备和涂胶显影设备具有一定的技术共通性，但涂胶显影设备产品结构复杂、功能单元众多，研发难度更大，市场份额也更加集中。