
干式真空泵为半导体制造环节中主要应用的真空泵类型。与油封式真空泵不同,干式真空泵因机械摩擦很小而且无需油类或其他液体介质介入,因而避免了工作介质返流污染被抽容器以及介质变质腐蚀容器的问题。这不仅确保了更高的生产效率和产品良率,也降低了设备的维护成本和运行成本。由于半导体沉积及刻蚀工艺中往往生成腐蚀性气体和研磨微粒,采用干式真空泵也可更好地避免腐蚀性气体与介质发生有害化学反应,同时防止微粒混入液体介质中影响设备持续运行。
光伏产业链上游包括硅料生产、硅片制造,中游包括光伏电池片、光伏组件,下游主要是光伏发电及其应用。其中具备真空生产需求的环节主要包含硅片制造中的拉晶环节,以及电池片生产环节。
真空泵为拉晶环节提供单晶生长的洁净环境。拉晶工艺的准备工作主要为装料、抽空捡漏、压力化。在保障炉内具有较高的洁净度的同时,使得炉内压力逐渐升至单晶成长的压力范围。之后方可进行化料、引晶、缩颈、放肩、转肩、等径生长等工序,最终产出晶棒。因此,真空泵主要用于拉晶工艺的抽空环节。