2021年全球半导体ALD设备市场份额

图32：2022年全球上市公司半导体设备业务营收排名前十

资料来源：CINNOResearch，国信证券经济研究所整理

公司在全球沉积、刻蚀、清洗等半导体设备市场份额中排名前列。据Gartner数据，在2021年全球半导体CVD（化学气相沉积）设备市场份额中，公司占比23%；在2021年全球半导体ALD（原子层沉积）设备市场份额中，公司占比9%。据Gartner数据，在2021年全球半导体刻蚀设备市场份额中，公司占比46%，排名第一；在2021年全球半导体清洗设备市场份额中，公司占比12%。

图33：2021年全球半导体CVD设备市场份额图34：2021年全球半导体ALD设备市场份额

资料来源：Gartner，国信证券经济研究所整理资料来源：Gartner，国信证券经济研究所整理

图35：2021年全球半导体刻蚀设备市场份额图36：2021年全球半导体清洗设备市场份额

资料来源：Gartner，国信证券经济研究所整理资料来源：Gartner，国信证券经济研究所整理

聚焦刻蚀、沉积、清洗三大领域，通过收购不断扩充业务版图

公司成立于1980年，创始人为林杰屏（Davidk.Lam），于1984年在美国纳斯达克上市。公司成立之初以刻蚀设备为主要方向，于1981年推出第一台自动化多晶硅等离子刻蚀机AutoEtch480；1985年，公司发布第一款氧化物蚀刻系统AutoEtch590；1987年推出Rainbow刻蚀系统。此外，公司还不断发展沉积与清洗设备，聚焦刻蚀、沉积、清洗三大领域，不断巩固半导体设备行业龙头地位。