高性能铬粉是制备铬靶和铬合金靶的关键材料。铬靶材是一种广泛应用于半导体、大型幕墙玻璃、汽车后视镜、电子产品装饰、工艺品装饰、刀具等领域的靶材。
传统的电镀镀铬工艺存在电解质污染的问题,因此为了环保考虑,人们正在逐渐采用PVD工艺替代传统镀铬工艺。其中,磁控溅射镀膜是常用的PVD工艺,利用离子源产生的离子在高真空环境中加速轰击固体表面,将固体表面的原子脱离固体,并沉积在基板材料上形成薄膜材料。而被高速轰击的固体即为靶材。由于镀膜技术的广泛应用,靶材已成为现代制造业中不可或缺的关键材料。