
产业东移趋势逐渐明确,布局高壁垒+国产化率低的特气。特气作为半导体制造的重要耗材之一,根据TECHCET和智研咨询,22年全球市场规模约68亿美元,在晶圆制造材料市场中占比约15.2%,预计27年市场空间将达到92亿美元,5年CAGR 6.3%。根据金宏气体招股说明书,特气拥有技术+资金+认证+资质等多重壁垒。2020年电子特气国产化率仅14%,主要市场被美国空气化工、德国林德集团、法国液化空气和日本大阳日酸四家公司占据,市场集中度较高,仍有较大国产替代空间。
中长期看,随制程演进,工艺步骤增加,预计进一步带动特气需求增长。根据气体圈子,电子特气在半导体领域可用于制作清洗剂、刻蚀剂等。随半导体制程演进,刻蚀步骤数以倍数级别增长。在逻辑器件领域,从28nm到10nm制程工艺,刻蚀步骤从仅40步,增加到115步,从10nm提升到5nm,刻蚀步骤增加到160步。在存储器件领域,从2D NAND、2D DRAM升级