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2021年过程控制分类及市场规模(亿美元)

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2021年过程控制分类及市场规模(亿美元)
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© 2026 万闻数据
数据来源:Gartner,方正证券研究所
最近更新: 2023-09-16
补充说明:1、E表示预测数据;2、*表示估计数据;

数据描述

套刻精度测量设备:用于测量层与层之间的套刻误差,也就是两层图形结构中心的平面距离,主要测量系统有3种,光学显微成像(IBO)系统、光学衍射(DBO)系统和扫描电镜(SEM-OL)系统。光学显微成像系统最常用,通过成像的方式计算套刻误差;光学衍射系统采用非成像的方式,通过光强传感器测量衍射射束强度确定套刻误差,使用的光学元件较少,常用于先进的光刻工艺控制中;扫描电镜系统主要用于刻蚀后的最终套刻误差测量,测量速度较慢。

套刻精度测量的对象是套刻目标图形,这些图形通常制作在划片槽区域,用于成像套刻测量系统的目标图形通常有(a)块中块、(b)条中条和(c)目标(AIM)图形。