
国内企业供应本土电子特气份额不足15%,市场份额同样被外资公司控制。具体到电子特种气体领域,全球主要生产企业为SKMaterials、关东电化、昭和电工、派瑞特气等,该等企业在总体规模上均与4大国际巨头存在差距,但在细分领域具有较强的竞争力;国内电子特种气体企业主要有派瑞特气、南大光电、昊华科技等。我国电子气体供应“卡脖子”现象依然十分严重,据《提升我国电子工业气体供应能力的对策》,目前,国内市场电子特气自给率只有12%。发展我国电子气体产业,尤其是高端电子气的自主产业化已经刻不容缓。
电子特气技术壁垒颇高,国内企业在部分工艺上已实现突破。在5G、人工智能、物联网等带动下,集成电路制造技术发展从摩尔定律到超越摩尔发展。逻辑芯片技术节点从传统0.35um开始延伸到 3nm 特征尺寸,预计到2025年实现 1.5nm 技术突破;三维闪存芯片制造技术从32层发展到128层,预计到2025年突破到384层;动态记忆体制造技术,从 19nm 开始向 15nm 迈进,预计到2025年实现 11nm 技术突破。先进技术节点突破性发展要求包括电子特种气体在内的新材料技术发展作为支撑。高密度、低功耗的集成电路制造,对反应温度、纯度、杂质提出新的要求,对产品质量稳定性和一致性提出更高的要求。未来,电子特种气体需要针对性的加强提升合成技术、纯化技术、分析技术、充装技术和绿色环保技术。
国内气体生产与国际差距主要表现在提纯净化、管路阀门及气瓶包装物等金属表面处理、气体检测技术等。但国内企已在核心技术上取得部分突破:在气体纯化环节能将部分电子特气实现9N纯度,在气体混配环节可使配气误差达到±2%以内,在气瓶处理环节可使粗糙度达到0.2μm以下,在气体分析检测环节对多种气体的检测精度可达0.1ppb。