2017-2021 年中国新型显示产业规模

光刻技术：FPD制造高世代产线均采用投影式光刻技术，直写光刻设备可应用于低世代产线中，但在Mini/MicroLED阻焊层曝光中，直写光刻技术为未来主流方向。

目前FPD制造对于光刻精度要求不高，但高世代产线均采用投影式光刻技术（满足曝光精度要求并可实现大批量产业化生产），直写光刻设备可应用于低世代产线中，但在高世代产线中还未有产业化的应用。目前，FPD投影式光刻设备的主要厂家包括日本Nikon、Canon、美国Rudolph以及上海微电子（国内）等，其中前两者占据了FPD高端光刻设备的主要市场份额。在低世代产线中，直写光刻设备能够实现最小线宽低于1μm的光刻精度，可应用于客户小批量、多批次产品的生产以及新产品的研发试制。该领域内直写光刻技术国外竞争对手主要是德国Heidelberg等。

在Mini/MicroLED中，由于Mini/MicroLED显示面板器件数量繁多且线间距密集，要求阻焊层曝光精度较高，保证50-60μm之间，同时需匹配高反射率的阻焊油墨使用。目前，除直写光刻技术外，采用底片曝光的传统曝光技术也有应用。但是，随着Mini/microLED面板尺寸、显示效果、器件数量的要求不断提升，传统的曝光技术无法满足阻焊层曝光精度需求，为直写光刻技术的应用渗透提供了市场机遇。