2022 年全球光刻机行业 CR3 市场份额占比（%）

目前全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主，合计达264台，占比约65%；其次分别为ArFimmersio、Arfdry、EUV，占比分别为19%、8%及8%。其中，EUV是全球光刻机的重要发展方向之一，其价格远高于其他种类的光刻机。

2021年全球光刻机市场规模175亿美元，全球光刻机市场的主要竞争公司为ASML、Nikon和Canon，其中ASML占据绝对霸主地位。ASML是全球唯一一家能够设计和制造EUV光刻机设备的公司，单台EUV光刻机市场售价超过1亿美元。尼康除EUV光刻机外波长均可覆盖，佳能主要集中在i-line和KrF光刻机。2022年该三家厂商市场份额占比分别为82.14%、10.2%和7.65%，以ASML为首形成垄断格局。其中，超高端光刻机EUV领域中ASML独占鳌头，高端光刻机ArFi和ArFdry领域也主要由ASML占领，Canon主要集中在i-line光刻机领域，Nikon除EUV外均有涉及。

目前国内光刻机市场规模较小，但是随着国家政策的支持和技术水平的提高，中国光刻机市场具有很大的发展潜力，预计，2022年中国光刻机市场规模将达到27亿美元。上海微电子是国内主要的光刻机生产企业之一，其产品主要采用ArF、KrF和i-line光源，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，28nm设备积极研发推进中，上海微电子自主研发的600系列光刻机已经突破了外国光刻机卡脖子，可批量生产90nm工艺的芯片。此外，还有北京华卓精科科技股份有限公司、北京科益虹源光电技术有限公司等，国内光刻机市场正在国家政策的支持下飞速发展。