2021 年全球前十大 PCB 制造商仅两家来自中国大陆

光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将设计好的微图形结构转移到覆有感光材料的晶圆、覆铜板、玻璃基板等基材表面上的微纳制造技术，可用来加工制造芯片、显示面板、掩模版、PCB等。光刻主要工艺流程有预处理、涂胶、曝光、显影、刻蚀和去胶等一系列环节，其中曝光是光刻中最重要的工艺。

光刻技术在PCB制造可主要分为直接成像和传统曝光。在PCB制造领域，根据曝光时是否使用底片，光刻技术可主要分为直接成像（直写光刻在PCB领域一般称为“直接成像”，对应的设备称为“直接成像设备”）与传统曝光（对应的设备为“传统曝光设备”），直接成像相较于传统曝光在光刻精度、对位精度、良品率、环保性、生产周期、生产成本、柔性化生产、自动化水平等方面具有优势。受益于设备成本不断降低，直接成像设备在中高端PCB产品制造中已广泛应用，目前已发展为PCB制造曝光工艺的主流技术。