中国通用打印耗材芯片市场规模

公司搭建七大技术平台和先进材料创新研究院，积累整合技术优势。公司重视技术的研发与整合，利用二十多年来积累的技术和经验，打造了七大技术平台：有机合成技术平台（研发半导体显示材料业务）、无机非金属材料技术平台（研发打印复印通用耗材原料及抛光液原料等）、高分子合成技术平台（研发彩色聚合碳粉、CMP抛光材料、封装材料等）、物理化学技术平台（主要研发CMP抛光材料）、金刚石工具加工技术平台（CMP钻石碟的电镀、钎焊及烧结工艺）、工程装备设计技术平台（产线的自主设计）、材料应用评价技术平台（打印复印通用耗材、CMP抛光材料及新型显示材料三大应用评价中心）。此外，公司投资建成湖北鼎龙先进材料创新研究院，探索技术和材料创新的平台化，致力于将技术进展应用到项目实践中去。技术平台与产业化的融合，推动公司产品的不断研发与改善。

CMP制程工艺材料领域：国产抛光垫龙头，抛光液及清洗液产品品类持续丰富并进入客户端放量阶段。公司致力于为下游晶圆厂客户提供整套的一站式CMP核心材料及服务，围绕CMP环节核心耗材，以成熟产品CMP抛光垫为切入口，推动CMP抛光液、清洗液产品的横向布局，各种CMP耗材相互适配，满足客户对稳定性的要求。公司是国内唯一一家全面掌握抛光垫全流程核心研发和制造技术的CMP抛光垫的国产供应商，在国内大部分主流客户已成为第一供应商；公司布局开发近40种抛光液产品，并实现抛光液上游核心原材料研磨粒子的自主制备，打破相关领域的垄断供应制约；铜制程CMP后清洗液产品持续稳定获得订单。此外，公司坚持材料技术创新与上游原材料的自主化培养同步，自主开发部分核心原材料并实现产业化生产，常规型号原料均实现自研自产，保障公司上游供应链的安全、稳定。