
PVD是一种工业制造的工艺,主要利用物理技术来沉积薄膜。PVD技术多用在各种需要薄膜材料的机械,光学以及电子器件,主要分为真空溅射、真空蒸镀和离子束辅助沉积。其中真空蒸镀主要通过热蒸发或使用电子束、激光加热材料使其升华,接触衬底表面后冷却形成薄膜。真空溅射通过高压电场产生高能离子流,高能离子轰击靶阴极产生原材料分子或原子,使原材料附着在目标衬底上。在真空溅射的基础上,通过外加磁场和电场,大幅改善溅射的效率和原子密度,目前已广泛应用。
位处产业链中游,靶材是PVD镀膜关键耗材。靶材产业链可分为原料提纯,靶材制造,镀膜以及应用。金属/非金属原材料经过开采,提纯,形成高纯金属/非金属单质。蒸镀靶材通常为块状,需要对高纯金属粉末进行进一步冶炼、加工、定型。溅射靶材的制造工艺则更加复杂,除了对于金属粉末的冶炼提纯外,还需要进行特定形状的轧制,与溅射背板绑定等过程。