
碳化硅产业链主要包括衬底、外延、器件设计、器件制造、封测等。从工艺流程上看,碳化硅一般是先被制作成晶锭,然后经过切片、打磨、抛光得到碳化硅衬底;衬底经过外延生长得到外延片。外延片经过光刻、刻蚀、离子注入、沉积等步骤制造成器件。将晶圆切割成die,经过封装得到器件,器件组合在一起放入特殊外壳中组装成模组。
碳化硅产业链价值集中于上游衬底和外延环节。根据CASA的数据,衬底约占碳化硅器件成本的47%,外延环节又占据23%,制造前的成本占据全部成本的70%。而对于Si基器件来说,晶圆制造占据50%的成本,硅片衬底仅占据7%的成本,碳化硅器件上游衬底和外延价值量凸显。由于碳化硅衬底及外延价格相对硅片较为昂贵,碳化硅功率器件现阶段渗透率较低。然而,由于碳化硅器件高效率、高功率密度等特性,新能源汽车、能源、工业等领域的强劲需求有望带动碳化硅渗透率快速提升。