2020年全球半导体清洗设备市场份额

半导体清洗设备市场前景好，规模增速快。根据Gartner的数据，2018年全球半导体清洗设备市场规模为34.17亿美元，2019年和2020年受全球半导体行业景气度下行的影响，有所下降，分别为30.49亿美元和25.39亿美元，预计2021年随着全球半导体行业复苏，全球半导体清洗设备市场将呈逐年增长的趋势，2024年预计全球半导体清洗设备行业将达到31.93亿美元。

半导体清洗设备市场集中度高，国外厂商占据主导地位。在全球清洗设备市场，日本公司占据主导地位，DNS占据40%以上的市场份额，TEL、SEMES、拉姆研究等也在行业占据了较高的市场份额，市场集中度较高。国内市场中，DNS和TEL仍然占据较大市场份额，盛美、北方华创则分别占据了10%和5%左右的市场份额，一定程度上打破了进口垄断，开启国产替代。

加大集成电路湿法设备研发力度，实现从光伏到半导体领域的突破。公司的子公司捷佳创精密机械于2019年成立了半导体湿法工艺研究室，2020年投资成立创微微电子，专门从事集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产和销售，主要产品有4到12吋批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备，应用范围涵盖了MicroLED、第三代化合物、微机电、后端封装及集成电路IDM和代工大厂所需的湿法工艺需求，满足近90%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、氮化硅刻蚀、炉管前清洗等。于2021年先后成功交付Cassette和Cassetteless类型集成电路全自动槽式湿法清洗设备，2022年8吋Cassette-less清洗设备顺利交付至上海积塔半导体有限公司并开始验证阶段，还中标后续10余台清洗设备重复订单，制程涵盖8吋至12吋，还成功导入青岛芯恩、成都德州仪器等芯片头部企业，实现了公司从光伏装备设计及制造往泛半导体及半导体行业的拓展。