
碳化硅渗透率抬升。碳化硅器件使用第三代半导体材料碳化硅作为衬底,与硅基器件相比,碳化硅为基底的功率半导体器件具有以下优势,1)宽禁带:禁带是硅的3倍,可转换为高10倍的击穿电场。2)高导热性:导热率是硅基底器件3倍。功率损耗产生的热量可以快速通过SiC传导。3)耐高温:200度以上高温环境下运行效率良好。相较于硅基器件,SiC MOSFET的整体功耗更小,结合本身高导热性与耐高温的特性,其对系统中整体的电池容量/冷却系统元器件需求量降低,进而减少系统成本。综合来看,碳化硅器件的应用可以有效提升新能源汽车的续航里程+百公里加速能力,可承载1200V以上电压,当前小范围应用于配套高压快充的B级及以上车型。