
半导体硅片的上游是半导体级多晶硅材料,下游是半导体产品。硅元素在自然界中以二氧化硅为主要存在形式,通过化学还原生成多晶硅材料,之后再进行提纯。
光伏用多晶硅材料纯度要求为 6~9 个“9”之间(99.9999%-99.9999999%),半导体用纯度要求 11 个“9”以上(99.999999999%)。制作完成的半导体硅片被晶圆厂用作衬底制造出各类半导体产品,并最终应用于手机、电脑等终端产品中。
半导体硅片制造流程复杂,主要包括拉单晶和硅片的切磨抛外延等工艺。半导体硅片的生产流程复杂,涉及工序较多。研磨片工序包括拉单晶、截断、滚圆、切片、倒角、研磨等,抛光片是在研磨片的基础上经边缘抛光、表面抛光等工序制造而来;抛光片经外延工艺制造出硅外延片,经退火热处理制造出硅退火片,经特殊工艺制造出绝缘体上硅 SOI。硅片制造过程中需要经过多次清洗,在销售给客户之前还需要经过检验和包装。