2019 年全球半导体光刻胶市场竞争格局

10月美国发布的出口管制新规，大体可概括为3个禁止：禁止向中国出口高性能芯片；禁止向中国出口半导体制造工艺中所需的设备和中间材料；限制美国高级人才到中国半导体企业就业。如果存在供应风险，主要影响包括 14nm 以下制程， 18nm 以下DRAM制程，以及128层以上NADN制程等。半导体光刻胶如供应出现不稳定状况，将在一定程度上影响国内相关厂商扩产的进度和规划。

光刻胶及其配套化学品是重要的半导体材料，在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料。然而，光刻胶的国产化率却很低，2020年，g线、i线光刻胶国产化率在20%左右，KrF光刻胶不足5%，ArF光刻胶则基本依靠进口。

根据TECHCET的数据显示，2021年整个半导体用光刻胶的市场只有19亿美元的规模，日本和美国的光刻胶企业几乎垄断了整个半导体用光刻胶市场。拿ArF光刻胶举例，日本的JSR、信越化学、东京应化、住友化学四家企业就占据了82%的市场份额，KrF光刻胶市场中，东京应化、信越化学、JSR和杜邦占据了85%的市场份额。