【莱伯泰科】公司拓展高端分析仪器产品，完善实验室理化分析前处理+分析测量产业链布局。

目前，该产品已在半导体头部企业的芯片生产线端成功通过验证。2）公司目前在研电感耦合等离子体四极杆-飞行时间串联质谱仪（ICP-Q-TOF-MS）以及电感耦合等离子体串联四极杆质谱仪(ICP-MS-MS)，拓展单细胞多元素免疫分析以及低检出限无机元素测量分析领域。

多晶硅根据用途可分为电子级、太阳能级，电子级多晶硅主要应用于半导体产业。我国多晶硅相关的方法标准初步完善，包括了施主杂质浓度、受主杂质浓度、表面金属杂质、基体金属杂质等项目的检测，基本涵盖了产品性能主要的指标。电子级多晶硅主要应用于半导体产业，对应国内GB/T12963标准以及海外SEMI M16-1110标准。

电子级多晶硅生产对于表面金属杂质严格控制，ICP-MS质谱仪为国标推荐检测仪器。1）电子级多晶硅体表金属主要指的是铁、铬、镍、铜、铝、钠、钾等元素，国内与国际标准根据产品的品级对于表面金属杂质含量进行严格限定。2）ICP-MS质谱仪检出限可达痕量及以下，具有多元素快速分析，精密度高等优势，因此电感耦合等离子体质谱法ICP-MS为我国国标GB/T 37049-2018《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定》指导检测方法。（《电子级多晶硅金属杂质来源探讨》、《ICP-MS测定电子级三乙基镓中23种杂质元素含量》）