
薄膜沉积设备行业目前被海外厂商垄断。2019年,在CVD市场中,应用材料(AMAT)全球占比约为30%,泛林半导体(Lam)占21%,东京电子(TEL)占19%,三大厂商占据了全球70%的市场份额;ALD设备中,TEL和ASMI分别占据了31%和29%的市场份额。根据TEL的数据,2021年,其CVD全球份额为44%,ALD全球份额为29%,显示国际龙头目前在薄膜沉积设备行业份额仍较高。
国产薄膜沉积设备公司各有分工,拓荆瞄准高门槛的PECVD和ALD。对比国内从事半导体薄膜沉积设备的公司来看,拓荆科技是目前领先实现集成电路用PECVD产业化应用的公司。在LPCVD上,由于技术门槛相对PECVD较低,目前国内有北方华创、盛美都已有产品,而中微在研发中。ALD主要分为PEALD和ThermalALD,而目前拓荆和北方华创分别都有产业化应用。
拓荆科技PECVD产品在多家晶圆厂中标,实现份额快速提升。我们选取了国内部分主流晶圆厂作为样本,分析其薄膜沉积设备的招标以及中标厂商情况。