2010-2016年中国集成电路用溅射靶材市场规模（十亿人民币）

这段数据主要介绍了2010年至2016年中国集成电路用溅射靶材市场规模的变化情况。从图表数据可以看出，自2010年以来，市场规模呈现出稳定增长的趋势，尤其是在2014年和2016年，分别达到了113亿和148亿，涨幅显著。

详细数据显示，2010年市场规模为76亿，随后逐年增加，至2011年达到8.3亿，2012年突破8.8亿，2013年进一步增至9.4亿，2014年跃升至113亿，2015年保持在116亿，直到2016年达到148亿的高峰。整体来看，2015年与2010年相比，市场规模增长了52.63%，表明中国集成电路用溅射靶材市场在过去几年间实现了快速且稳定的增长。

值得注意的是，这些数据反映出中国半导体产业的持续发展以及对集成电路专用材料的需求日益增长。这一增长趋势与政策支持、市场需求和技术进步等因素紧密相关。数据还提示了未来市场可能继续扩大的可能性，特别是考虑到国内对半导体材料国产化的重视以及对自主可控技术的追求。因此，对于关注半导体产业和集成电路材料市场的投资者和决策者而言，这些数据提供了重要的参考信息。