这段数据介绍了全球晶圆制造用溅射靶材市场的规模变化情况,时间跨度从2016年到2021年。数据显示,该市场在2016年的规模为64亿美元,此后逐年增长,到2021年达到了105亿美元。这一增长趋势体现了半导体产业的持续发展和对高质量、高纯度溅射靶材需求的增加。
值得注意的是,数据还提到“高纯溅射靶材国产领军者”的信息,这可能意味着中国企业在该领域取得了显著进展,不仅满足了国内需求,也促进了全球市场的扩张。此外,“扩产、零部件业务推动业绩持续高增长”这一备注,暗示了通过扩大产能和拓展相关业务,企业能够进一步提升其在全球市场中的竞争力。
总体而言,全球晶圆制造用溅射靶材市场展现出稳健的增长态势,特别是在高纯度靶材和本土化生产的背景下,显示出未来市场潜力巨大。