2016-2021年中国CMP抛光垫市场规模（十亿人民币）

这份数据报告关注的是2016至2021年中国CMP（化学机械抛光）抛光垫市场的规模变化情况。数据来源为TECHCET，表明了该领域在中国市场上的活跃度和影响力。从图表展示的数据可以看出，自2016年至2021年，中国市场CMP抛光垫的市场规模经历了显著增长。

具体而言，2016年的市场规模为81亿人民币，到了2021年，这一数字增长至131亿人民币，复合年增长率约为10%。这一增长趋势主要得益于中国半导体产业的持续发展以及对高精度、高性能电子产品的不断需求。值得注意的是，2017年到2021年间，市场规模的增加不仅仅是数量级的增长，还反映了市场结构和需求的优化升级。

此外，报告特别强调了CMP抛光垫在半导体材料领域的关键作用，指出它对于实现材料的高效、精确处理至关重要，尤其是对于提升芯片性能和生产效率有着不可替代的作用。这表明，在追求自主可控、提高国产化率的大背景下，CMP技术及其相关材料成为了推动中国半导体产业发展的关键因素之一。

综上所述，这份数据报告不仅呈现了中国CMP抛光垫市场规模的增长趋势，还揭示了其在半导体产业中的战略地位，预示着未来在技术创新和产业合作方面的巨大潜力。