全球CMP(化学机械抛光)抛光垫市场规模在过去五年内经历了显著增长。从2016年的65亿美元增长至2021年的113亿美元,年复合增长率达到了11.5%。这一增长主要归功于技术进步和对更高性能电子产品需求的推动。
值得注意的是,2020年是该市场增长的一个关键转折点,从70亿美元跃升至102亿美元,增幅高达45%,这可能与新冠疫情导致的供应链调整以及对半导体产品需求激增有关。随后的一年,即2021年,市场规模继续扩大,达到113亿美元,进一步巩固了CMP抛光垫在半导体制造中的重要地位。
从来源信息来看,数据由TECHCET提供,这是一家专注于半导体行业研究的机构,其报告为评估全球CMP抛光垫市场的动态提供了权威依据。此外,相关深度报告强调了CMP技术在半导体材料平台型公司的自主可控性上扮演的关键角色,并预测了其对业绩增长的积极影响。
综上所述,全球CMP抛光垫市场规模的持续增长反映了半导体行业对高质量、高效率制造设备的需求不断上升,同时也突显了该技术在推动半导体产业创新和发展中的核心作用。